[多选题] 提问人:匿名网友 提问时间:2021-08-25

商业秘密的商业价值,根据其( )等因素确定。


A .精神损失
B .研究开发成本
C .实施该项商业秘密的收益
D .可得利益
E .可保持竞争优势的时间

提问人:匿名网友 提问时间:2021-08-25

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习题解析

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1 .商标评审案件的受案范围包括( )。

A 商标驳回 B 无效宣告 C 商标驳回复审 D 无效宣告复审 E 不予注册复审

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2 .针对海外专利纠纷的解决策略,下列属于制订应诉策略的有( )。

A 针对诉讼程序提出异议 B 进行构成侵权的抗辩 C 缩小专利权保护范围 D 现有技术抗辩和提出专利权无效请求 E 提起反制性质的诉讼

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3 .商业秘密的构成需要具备以下哪些要件( )。

A 独特性 B 秘密性 C 价值性 D 关键性 E 保密性

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4 .通常可采用的商业秘密管理模式包括( )等。

A 项目式管理 B 过程式管理 C 部门式管理 D 人员式管理 E 商业式管理

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5 .侵犯商业秘密的行为可能承担的法律责任有( )。

A 法律责任 B 民事责任 C 行政责任 D 刑事责任 E 军事责任

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7 .实践中,认定向主研发通常要考虑以下哪些因素( )。

A 自主研发信息所形成的文件资料 B 自主研发信息所消耗的资金凭证 C 证明自主研发成功的时间早于其接触到商业秘密的时间 D 证明尚未有其他人研发此内容 E 证明以合法途径进行研发

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8 .根据集成电路保护国内立法和集成电路国际条约,集成电路布图设计专有权具有( )等。

A 有形性 B 无形性 C 专有性 D 公开性 E 地域性

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9 .根据《集成电路条例》第五条,集成电路布图设计专有权保护的客体不延及( )等。

A 思想 B 处理过程 C 三维配置 D 操作方法 E 数学概念

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10 .根据《集成电路条例》第十六条规定,集成电路申请布图设计登记应提交的材料有( )。

A 集成电路布图设计流程 B 集成电路布图设计登记申请表 C 集成电路布图设计的复制件或者图样 D 集成电路布图设计已投入商业利用的提交含有该布图设计的集成电路样品 E 国家知识产权局规定的其他材料

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